【真空鍍膜機之卷繞機構設計中應考慮的問題】①提高卷繞速度的問題。卷繞速度即是帶狀基材運動的線速度，它是卷繞機構的一個主要技術指櫟。國內早期鍍膜機卷繞速度只有10m/min，現在也只有80m/min～120m/min，在國外日本的EW系列產品中，其卷繞速度已達到300m/min，德國L．H公司生產的鍍膜機已達到600m/min，可見隨著鍍膜技術的發展，卷繞速度有待提高。②帶狀基材的線速恒定問題。這一問題也很重要，因為只有卷繞機構保證帶狀基材的線速恒定，才能使基材上鍍層厚度均勻。這一點對制備帶狀基材的功能性膜（如電容器膜）尤為重要。③帶狀基材的跑偏和起褶問題。隨著卷繞速度的提高，帶狀基材在卷繞鍍膜過程中，起褶和發生偏斜，嚴重時會造成基材的斷裂，使生產中斷，既影響生產效率，又浪費材料。因此，在卷繞機構的設計中應充分考慮這一問題。真空鍍膜機廠家qian十。重慶射頻離子源批發價格

【真空鍍膜機鍍塑料件時抽真空時間過長是什么原因？】(1)真空室有漏氣現象：da家都知道，真空蒸發鍍膜機是的基本條件是工件在真空狀態下才能進行鍍膜加工的，若真空室有漏氣現象而沒有經過檢漏找出漏氣位置，則真空鍍很長時間都不能抽得上來的；(2)即使真空室沒有漏氣，因為塑料產品的放氣量da，所以抽真空，特別是高真空很難達到。真空室內太臟放氣，而且由于塑料產品的放氣，造成真空室內鍍膜氣體的不純，有雜氣的存在，造成鍍膜產品的顏色發暗，發黃，發黑等。（3）也許是真空機組的抽氣能力不夠了，油被污染或氧化了。（4）真空室有漏水。（5）抽空管道有漏氣。天津離子束輔助沉積射頻離子源專業生產真空鍍膜機國內有哪些產商？

【真空鍍膜機真空檢漏方法之靜態升壓法】靜態升壓法屬于真空檢漏法中的一種，也是簡單易行的真空系統檢漏方法，因為它不需要用額外特殊的儀器或者特殊物質，通過測量規管就可以檢測真空系統的總漏率，從而確定真空系統或部件是否滿足工作要求。雖然勝在簡單，但也存在局限。如果真空系統或容器存在漏孔的話，靜態升壓法是無法確定漏孔所在的。因此在確定系統是否有漏孔的同時還需要確定其位置的話，就需要配合其他方法來進行了。靜態升壓法的操作只要將被檢容器抽空至相應的壓力范圍，再關閉閥門，隔離真空泵與真空容器，然后用真空計測量記錄真空容器中壓力隨時間的變化過程，即可得出泄漏數據。《真空系統抽氣達不到工作壓力有哪些原因》中，螺桿真空泵廠家介紹的判斷方法即是通過靜態升壓法實現的，比較方便。當然在應用過程中，要提高準確性就要減少其他因素干擾，需要在檢測之前對容器進行凈化清洗并烘干，或者用氮氣進行沖洗。更嚴格一點可以在測量規管與容器之間設置冷阱，處理釋放的可凝氣體，而對可能存在的漏孔所漏進的空氣不會造成影響。

【真空鍍膜設備維修保養技術】一、當鍍膜設備工作完成到兩百個鍍膜的時候，拆出密封圈，及時清潔設備環境（室內環境）。如何清潔保養？首先我們要使鍍上去的膜層掉落，同時釋放氫氣，清洗過程中要注意所使用到的溶液會灼傷人體的皮膚，所以通常我們要小心謹慎用堿飽和溶液不斷來回清洗真空適合內部（內壁），再用清水洗刷真空室，并通過抹布沾上汽油擦拭抽閥里面的污漬。二、當閥泵連續工作一個月之后，為保持設備的正常運轉我們需要更換油。將泵啟動，擰開放油螺栓，使泵內的舊油完全排放出來。擰回放油螺栓，觀察油視鏡倒入新油加到一定額度，平常換油時應將油蓋打開，有需要時用布擦干凈箱內污垢。三、擴散泵連續使用6個月以上，抽的速度會顯然變慢，當操作不當應拆去聯結水管，卸下電爐盤，將一級噴嘴擰出，先用汽油將泵腔及泵膽清洗一遍，再用洗衣粉兌水清洗一遍，然后用清水徹底清洗干凈，待水份揮發干以后，裝好泵膽，加入新擴散泵油，并裝回機體，接好水管，裝好電爐盤，便可以重新開機。在重新開機前，要注意檢漏工作。首先啟動維持泵，關好da門，數分鐘后，觀察擴散泵部分真空度是否達到標準，否則要進行檢漏。檢查聯接處的密封圈是否正常。真空鍍膜機的培訓資料。

本發明的優點在于：本申請的束徑約束器通過驅動組件驅動滑環旋轉，以使葉片轉動來進行光闌的大小調節，調節方便且調節精度高；而采用包含該束徑約束器的束徑控制裝置進行束徑調節時，通過在控制器上輸入離子束束徑值即可實現光闌大小的調節，無需關閉離子源和打開真空腔體，調節效率高、自動化程度好。附圖說明圖1為現有技術中采用曲面柵網調節束徑的結構示意圖。圖2為本申請中離子束采用平面柵網的結構示意圖。圖3為本申請中束徑約束器結構示意圖。圖4為圖3的示意圖。圖5為為圖4的進一步示意圖。圖6為本申請中的葉片結構示意圖。圖7為本申請中的束徑控制裝置的示意圖。具體實施方式下面詳細描述本發明的實施例，所述實施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實施例是示例性的，*用于解釋本發明，而不能理解為對本發明的限制。如圖3至6所示為本申請的束徑約束器的結構示意圖，如圖所示，該射頻離子源離子束束徑約束器，包括底座1、多個葉片2及驅動機構，底座1上設置有可供離子束穿過的中空結構11，多個葉片2設于底座1一端并環繞底座1的中空結構11呈圓周排布。真空鍍膜機類型推薦。天津離子束輔助沉積射頻離子源專業生產

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【真空鍍膜之磁控濺射】在陰極靶表面形成一正交電磁場，在此區電子密度高，進而提高離子密度，使得濺鍍率提高(一個數量級)，濺射速度可達0.1—1um/min膜層附著力較蒸鍍佳，是目前實用的鍍膜技術之一。其它有偏壓濺射、反應濺射、離子束濺射等鍍膜技術濺鍍機設備與工藝濺鍍機由真空室，排氣系統，濺射源和控制系統組成。濺射源又分為電源和濺射qiang（sputtergun）。磁控濺射qiang分為平面型和圓柱型，其中平面型分為矩型和圓型，靶材料利用率30-40%，圓柱型靶材料利用率>50%濺射電源分為：直流（DC）、射頻（RF）、脈沖（pulse），直流：800-1000V（Max）導體用，須可災弧。射頻：13.56MHZ，非導體用。脈沖：泛用，新發展出重慶射頻離子源批發價格

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