浙江晶片濕法清洗設備
濕法設備包括濕法制絨設備（Perc 工藝）、制絨設備（Topcon工藝）、濕法刻蝕設備（Perc 工藝）、RCA槽式清洗設備（Topcon工藝）、電池濕法背拋清洗設備（Topcon工藝）、濕法制絨設備（HJT工藝）、電池濕法背拋清洗設備（XBC工藝）、制絨清洗設備（XBC工藝）等；釜川生產制造的濕法設備能與多種主流工藝如PERC、TOPCON、HPBC等相匹配，在設備結構、功能、產能和安全性等方面進行了升級。其作用是對太陽能電池用硅片進行清洗制絨處理，從而提升電池的質量和效率。濕法刻蝕設備（Perc 工藝）拋光槽：上表面采用水膜保護及輥輪帶液方式，完整的保護正面的同時。浙江晶片濕法清洗設備
濕法制絨清洗設備在安全性方面，設備主要結構采用阻燃或不燃材料，確保安全可靠。進風離子風扇和去靜電環提供雙重保護，加熱部件則采用多重相異方式保護，從而降低了安全風險。大功率工業熱水機可以加快配槽速度，通過優化程序實現能耗平衡。階梯節水和新型工藝槽換熱進水加溫結構，有效降低了能耗，從而降低了電池生產成本。光伏電池濕法制絨設備，與多種主流工藝如PERC、TOPCON、HPBC等相匹配，在設備結構、功能、產能和安全性等方面進行了升級。其作用是對太陽能電池用硅片進行清洗制絨處理，從而提升電池的質量和效率。合肥光伏濕法清洗設備電池濕法設備配合先進的干燥技術，可有效去除電池漿料中的水分和其他雜質，提高電極的干燥效果。
濕法工藝是一種化學反應過程，其中使用的催化劑是用于促進反應速率的物質。在濕法工藝中，催化劑的作用是加速化學反應的速率，從而提高生產效率和降低生產成本。在濕法工藝中，常用的催化劑包括酸、堿、氧化劑、還原劑等。其中，酸催化劑是常用的一種，它可以促進酸堿中和反應、酯化反應、酰胺化反應、烷基化反應等。常用的酸催化劑包括硫酸、鹽酸、磷酸等。堿催化劑也是濕法工藝中常用的一種催化劑，它可以促進酯化反應、酰胺化反應、酰化反應等。常用的堿催化劑包括氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉等。氧化劑和還原劑也是濕法工藝中常用的催化劑，它們可以促進氧化反應、還原反應等。常用的氧化劑包括過氧化氫、高錳酸鉀等，常用的還原劑包括亞硫酸鈉、硫酸亞鐵等。總之，濕法工藝中使用的催化劑種類繁多，不同的反應需要不同的催化劑來促進反應速率。在實際應用中，需要根據具體的反應條件和要求選擇合適的催化劑。
電池濕法設備Topcon工藝，拋清洗設備，功能是去除背面BSG和拋光處理。l閉環運動控制系統，保證輸送機構運動平穩性。l拋光槽：上表面采用水膜保護及輥輪帶液方式，完整的保護正面的同時，對背面作拋光處理。l烘干槽：采用高壓風機+高效過濾器的方式，l鏈式去BSG+槽式堿拋設備，設備產能大，穩定性好。l進口PLC控制，穩步提升設備的產能。l慢提拉采用機械臂慢提方式，設備滿足干濕分離，匹配高效電池發展趨勢。l可配套無金屬化制程設備，提高設備潔凈度。l工藝槽采用經典的內外槽的循環模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分攪拌均勻，槽內控溫精度誤差＜±1℃。濕法刻蝕設備（Perc 工藝）閉環運動控制系統，保證輸送機構運動平穩性。
光伏電池濕法設備XBC工藝背拋清洗設備，功能l硅片拋光處理。優勢：進口PLC控制，穩步提升設備的產能。l慢提拉采用機械臂慢提方式，設備滿足干濕分離，匹配高效電池發展趨勢。l可配套無金屬化制程設備，提高設備潔凈度。l工藝槽采用經典的內外槽的循環模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分攪拌均勻，槽內控溫精度誤差＜±1℃。l去除切割損傷層和表面臟污l使用強堿腐蝕晶體硅表面形成規則金字塔狀絨面，增加硅片對太陽光的吸收，降低反射率l增加硅片表面積，進而PN結面積也相應增加。光伏電池濕法制絨設備（HJT工藝）機械手分配合理，有效避免藥液交叉污染和槽體反應超時。北京新型濕法三頭
濕法刻蝕設備（Perc 工藝）拋光槽：上表面采用水膜保護及輥輪帶液方式，保護正面的同時，對背面作拋光處理。浙江晶片濕法清洗設備
電池濕法去PSG設備主要是對太陽能電池用硅片進行清洗處理，2022年成功研發雙六道大產能去PSG清洗設備，并實現量產，結構穩定性、產能、安全性升級。去PSG工藝首先將繞擴層PSG進行去除，利用背面PSG保護，在槽式清洗中完成去繞度工藝。為尋求更為穩定的硅片傳輸，整機設計為雙五道/雙六道分布結構，料臺歸正寬度可調，兼容更多規格的硅片，并為后續18X硅片更大產能改造提供了預留窗口；去PSG設備布局前后通透，給設備使用者提供了便捷性；上料臺搭配了大流量全新滴液泵；浙江晶片濕法清洗設備
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AC漆的優勢漆膜豐滿度高堅韌耐磨。硝基漆干燥迅速，活化期長，適合上線操作。硝基漆存在涂膜豐滿度欠佳，且漆膜硬度較差的特點。AC漆干燥速度較NC漆稍差，在烘烤的情況下也特別適合上線涂裝，且其涂膜豐滿度及 。
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